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Threading dislocation densities in semiconductor crystals: a geometric approach

机译:穿线半导体晶体中的位错密度:几何   途径

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摘要

In this letter, we introduce a geometric model to explain the origin of theobserved shallow levels in semiconductors threaded by a dislocation density. Weshow that a uniform distribution of screw dislocations acts as an effectiveuniform magnetic field which yields bound states for a spin-half quantumparticle, even in the presence of a repulsive Coulomb-like potential. Thisintroduces energy levels within the band gap, increasing the carrierconcentration in the region threaded by the dislocation density and addingadditional recombination paths other than the near band-edge recombination.
机译:在这封信中,我们介绍了一个几何模型来解释由位错密度穿入的半导体中可观察到的浅能级的起源。我们显示,即使在存在排斥性库仑势的情况下,螺旋位错的均匀分布也可以作为有效的均匀磁场,产生自旋半量子粒子的束缚态。这在带隙内引入了能级,从而增加了由位错密度穿线的区域中的载流子浓度,并增加了除近带边复合以外的其他复合路径。

著录项

  • 作者

    Bakke, K.; Moraes, F.;

  • 作者单位
  • 年度 2012
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 {"code":"en","name":"English","id":9}
  • 中图分类

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